鍍鈦加工價(jià)格-金屬鍍鈦加工價(jià)格-金常來(lái)專(zhuān)業(yè)鍍鈦廠(chǎng)家(多圖)
商丘金常來(lái)金屬制品有限公司
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鍍層附著(zhù)性能好
普通真空鍍膜時(shí)，在工件表面與鍍層之間幾乎沒(méi)有連接的過(guò)渡層，好似截然分開(kāi)。而離子鍍時(shí)，離子高速轟擊工件時(shí)，能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，鍍鈦加工價(jià)格，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，真空鍍鈦加工價(jià)格，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時(shí)，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無(wú)起皮或剝落現象發(fā)生，可見(jiàn)附著(zhù)多么牢固，膜層均勻，致密。
此外，多弧鍍涂層顏色較為穩定，尤其是在做 TiN 涂層時(shí)，專(zhuān)業(yè)鍍鈦加工價(jià)格，每一批次均容易得到相同穩定的金黃色，令磁控濺射法望塵莫及。多弧鍍的不足之處是，在用傳統的 DC 電源做低溫涂層條件下，當涂層厚度達到0.3μm 時(shí)，沉積率與反射率接近，成膜變得非常困難。而且，薄膜表面開(kāi)始變朦。多弧鍍另一個(gè)不足之處是，由于金屬是熔后蒸發(fā)，因此沉積顆粒較大，致密度低，耐磨性比磁控濺射法成膜差。
離子鍍
在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應物沉積在基片上的方法?？蓪㈦x子發(fā)生源與工作室分離，克服了濺射鍍膜為了持續放弧而必須保持較高的工作氣壓的缺陷，高能離子對襯底和沉積薄膜表面的轟擊保證了薄膜的附著(zhù)力和質(zhì)量，是一種結合了蒸發(fā)鍍膜和濺射鍍膜優(yōu)勢的PVD技術(shù)。
根據離化方式的不同，常用的離子源有考夫曼離子源、射頻離子源、霍爾離子源、冷陰極離子源、電子回旋離子源等。
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